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표면 및 구조 분석 장비

I. 표면 및 구조 분석 장비 Surface / Structure Analysis Equipment

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제품 정보
Field-Emission Scanning Electron Microscope (FE-SEM)
S-4700 (Hitachi) 장비 등록 번호 NFEC-2021-08-272556
시료의 미세구조 분석과 원소의 분석에 활용
  • · 이차 전자를 이용한 시료의 표면/단면 관찰
  • · 후방산란전자를 이용한 영상 분석
  • · 원소의 조성 분석 (EDS 부착 시 가능)
Features
  • · 배율 : 20x ~ 500,000x (유효 배율 : 100,000x)
  • · Sample Size : 100 x 100mm2
  • · Acceleration Voltage : 0.5 ~ 30kV
  • · Image Resolution : 1.5nm @ 15kV, 2.5nm @ 1kV
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제품 정보
3D Measuring Laser Microscope
OLS5100-SAM (Olympus) 장비 등록 번호 NFEC-2023-10-291085
시료의 3차원 형상, 단차, 거칠기 측정
  • · 디스플레이 및 반도체 구조물의 단차 측정
  • · 공초점 방식으로 높은 정확도
  • · 비접촉식 측정 가능
Features
  • · 듀얼 광원 (405nm 반도체 레이저 / 백색 LED)
  • · 평면 정확도 측정치의 ±1.5%이내
  • · 높이 정확도 측정치의 ±1.5%이내
  • · 이미지 최대 해상도 4096x4096 픽셀 이상
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제품 정보
Optical Microscope
BX51M (Olympus) 장비 등록 번호 NFEC-2021-08-272555
시료의 표면 형상 및 Size 분석
  • · 시료의 형상 측정과 크기 측정이 가능하며 Capture 및 동영상 촬영 가능
  • · 측정 모드 : Brightfield, Darkfield, 편광, 미분간섭(DIC) 관찰 가능
Features
  • · 대물렌즈 : x5, x20, x50, x100
  • · 대안렌즈 : x10
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제품 정보
Atomic Force Microscopy (AFM)
NX-10 (Park Systems) 장비 등록 번호 NFEC-2021-08-272511
시료의 표면 구조 및 형태를 분석
  • · Wafer의 박막 표면 측정이나, 시료의 표면 형태 분석
  • · 가공/패터닝된 웨이퍼의 Trench 구조 측정
  • · Sampel : 100 x 100mm2
Features
  • · Scan Range : 50 x 50μm2
  • · Working Distance of Z-scanner : 12 μm
  • · 측정 모드 : 접촉/비접촉 모드, EFM 모드
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제품 정보
Near-field Scanning Optical Microscope (NSOM)
Alpha 300R Plus (Witec) 장비 등록 번호 NFEC-2021-08-272522
시료의 표면 평가 및 분석에 활용
  • · Wafer의 박막 표면이나, 시료의 표면 형태 분석 가능
  • · AFM : Contact mode, Lateral Force mode
Features
  • · Sample Size : 120 x 120mm2
  • · Scan Resolution : X < 5nm, Y/Z < 0.5nm
  • · NSOM과 AFM 센서를 함께 사용하기 위한 근거리 대물렌즈 적용
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제품 정보
Laser Microscope
Alpha 300R Plus (Witec) 장비 등록 번호 NFEC-2021-08-272523
시료의 성분 분석에 활용
  • · Raman wavelength : 0 ~ 3600cm-1
  • · Wavelength Range : 390 ~ 800nm
Features
  • · Sample Size : 120 x 120mm2
  • · NSOM과 AFM 센서를 함께 사용하기 위한 근거리 대물렌즈 적용
  • · 모든 Image 픽셀에서 Raman Spectrum 정보를 이용한 초분광 Image 생성
  • · Spectrum 분해능의 성능을 위한 초고처리량 분광시스템 장착
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제품 정보
X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
R3000 (VG Scienta) 장비 등록 번호 NFEC-2021-08-272524
시료의 구성원소, 조성, 화학적 결합 상태 분석
  • · Energy resolution : <3meV
    @ 2eV Pass energy @ 20eV Kinetic Energy
  • · Pass Energy :
    2, 5, 10, 20, 50, 100 and 200eV
Features
  • · X-Ray Source : Al-Kα (hν = 1486.6eV)
  • · Kinetic energy range : 0.5 ~ 500 eV
  • · Maximum energy window(single-shot) :
    24eV, 12% of pass energy
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제품 정보
Glow Discharge Spectrometer (GDS)
GDS 850A (LECO) 장비 등록 번호 NFEC-2021-08-272524
Bulk 시료의 Depth에 따른 원소 정성적 분석
  • · Mg, Al, In, Si, Ga, N, O H Atomic % 측정
  • · Sample : Wafer 2” ~ 6” 분석 가능
  • ·
Features
  • · Uniformly Sputtered / Fast Measurement
  • · 부도체도 측정가능
  • · 반도체의 깊이 방향 원소 분포 분석

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